窄帶濾光片和截止濾光片的制作工藝有哪些不同？瑞研光學

鍍膜材料選擇

• 窄帶濾光片：通常需尋找高折射率且低消光系數的鍍膜材料，如二氧化鈦、五氧化三鈦等具有高折射率的材料，以實現對特定窄波段光的精確控制134.

• 截止濾光片：材料選擇較為多樣，根據截止波長范圍和具體應用有所不同。如紅外截止濾光片常使用稀土金屬化合物，像鉺、鐿等，可有效阻擋紅外光；對于可見光截止濾光片，也會用到一些金屬氧化物和有機染料等材料578.

膜系設計

• 窄帶濾光片：膜系結構相對復雜，一般由數十層甚至上百層不同折射率和厚度的薄膜組成，通過精確控制各膜層的厚度和折射率，利用光的干涉原理實現窄帶透過特性 。例如，采用法布里 - 帕羅腔堆疊的方式進行設計，使中心波長處的光干涉相長，而其他波長的光干涉相消346.

• 截止濾光片：設計重點在于實現特定波長范圍的截止，膜系結構相對簡單。比如長波截止濾光片，通過設計多層膜，使短波長的光透過，長波長的光在膜層間反射和吸收而截止。對于吸收型截止濾光片，主要依靠材料本身對特定波長光的吸收特性來實現截止，膜系設計相對更側重于材料的選擇和吸收層的優化257.

鍍膜技術

• 窄帶濾光片：常用的鍍膜技術有離子束濺射和電子束蒸發等。這些方法能夠在高真空環境下精確控制每層薄膜的厚度和折射率，保證膜層的均勻性和一致性，從而實現窄帶濾光片的高精度光譜特性，但設備成本較高、鍍膜速率相對較慢46.

• 截止濾光片：可采用真空蒸發、磁控濺射、化學氣相沉積等多種鍍膜技術。真空蒸發適用于金屬氧化物和稀土金屬化合物等材料的沉積；磁控濺射則適用于涂覆均勻性要求較高的光學薄膜；化學氣相沉積常用于復雜結構的薄膜沉積57.

制作流程及監控

• 窄帶濾光片：制作流程包括基底清洗、鍍膜材料準備、膜系設計與優化、高精度鍍膜以及嚴格的質量檢測等環節。在鍍膜過程中，需要精確控制膜層厚度和折射率，常采用光控監控和石英晶體監控等方法實時監測膜層生長情況，確保膜層厚度和性能符合設計要求146.

• 截止濾光片：首先要進行基材的準備，如切割、拋光等處理，以確保表面光滑平整，便于后續的鍍膜。然后進行涂層沉積，根據不同的鍍膜技術和材料選擇合適的工藝參數。在薄膜設計階段，使用光學設計軟件進行模擬和優化。制作過程中對膜層厚度和均勻性的監控要求相對較低，主要通過光譜測試等手段對成品進行質量檢測，驗證其在截止波長范圍內的性能57.